真空镀膜原理及旋片真空泵的应用:
　　真空镀膜原理：
　　通常，在真空镀膜技术中有两种形成薄膜的方法：
　　1利用粒子的物理运动的物理气相沉积（PVD）
　　2利用化学反应的化学气相沉积（CVD）。
　　在此，我们将简要介绍PVD中包括的蒸发方法和溅射方法。
　　蒸发法是形成薄膜的最简单方法，其中薄膜的材料在真空中加热，溶解和蒸发并粘附在物体上，可以将其与蒸汽现象进行比较。从浴缸的凝结成天花板上的水滴，就是生活中的例子！
　　另一方面，溅射法在真空室和由薄膜材料制成的电极（靶）之间施加几百伏的电压，如果少量惰性气体（例如氩气）添加到腔室中，就可以放电。气体颗粒通过电能量带正电荷。带正电的颗粒在负极的强力作用下被拉动，并与电极碰撞。冲击会轻弹一部分材料，然后变成颗粒，从而在目标上形成薄膜。
　　例如，旧的荧光灯中的气体进入灯丝（白炽灯发出热量和光的一部分），并且灯丝中的颗粒粘附在玻璃管的内表面。这是在荧光灯末端出现黑色污点的原因。认为这是溅射膜涂层的一种。
　　真度镀膜真空的实现：（旋片真空泵的应用）
　　真空镀膜涂覆系统在真空室中形成镀膜。它由真空室，真空泵（采用旋片真空泵）和阀门组成，如下所示。目前，我们还没有这么强大的泵可以立即将空气从大气层排放到高真空，因此需要两种泵，来构成真空机组,前级泵采用旋片真空泵（大气压105 Pa至几帕），后级泵，采用旋片式真空泵，或罗茨真空泵,(少于几帕）。
　　刚开始时，只有前级旋片式真空泵打开，并且一个粗抽气泵工作以排出空气。然后，关闭粗抽阀，然后打开其余两个阀，以激活串联的粗抽泵和大排量泵。这样，腔室内的真空度达到可以形成膜的水平。