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真空镀膜原理及旋片真空泵的应用

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  真空镀膜原理及旋片真空泵的应用:
  真空镀膜原理:
  通常,在真空镀膜技术中有两种形成薄膜的方法:
  1利用粒子的物理运动的物理气相沉积(PVD)
  2利用化学反应的化学气相沉积(CVD)。
  在此,我们将简要介绍PVD中包括的蒸发方法和溅射方法。
  蒸发法是形成薄膜的最简单方法,其中薄膜的材料在真空中加热,溶解和蒸发并粘附在物体上,可以将其与蒸汽现象进行比较。从浴缸的凝结成天花板上的水滴,就是生活中的例子!
  另一方面,溅射法在真空室和由薄膜材料制成的电极(靶)之间施加几百伏的电压,如果少量惰性气体(例如氩气)添加到腔室中,就可以放电。气体颗粒通过电能量带正电荷。带正电的颗粒在负极的强力作用下被拉动,并与电极碰撞。冲击会轻弹一部分材料,然后变成颗粒,从而在目标上形成薄膜。
  例如,旧的荧光灯中的气体进入灯丝(白炽灯发出热量和光的一部分),并且灯丝中的颗粒粘附在玻璃管的内表面。这是在荧光灯末端出现黑色污点的原因。认为这是溅射膜涂层的一种。
  真度镀膜真空的实现:(旋片真空泵的应用)
  真空镀膜涂覆系统在真空室中形成镀膜。它由真空室,真空泵(采用旋片真空泵)和阀门组成,如下所示。目前,我们还没有这么强大的泵可以立即将空气从大气层排放到高真空,因此需要两种泵,来构成真空机组,前级泵采用旋片真空泵(大气压105 Pa至几帕),后级泵,采用旋片式真空泵,或罗茨真空泵,(少于几帕)。
  刚开始时,只有前级旋片式真空泵打开,并且一个粗抽气泵工作以排出空气。然后,关闭粗抽阀,然后打开其余两个阀,以激活串联的粗抽泵和大排量泵。这样,腔室内的真空度达到可以形成膜的水平。

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